ALD & CVD

Sputter System + ALD System SSALD-01 ¥23,000,000〜

ALDとSputterを組み合わせた複合成膜装置です。

 

仕様 改良のため予告なく仕様変更することがあります
1"ALD装置 プリカーサライン2
排気系 ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ(ケミカル仕様)150L/S
基板加熱機構 500°C MAX80L/S
搬送機構 マグネットカップリング式トランスファーロット
スパッタ装置 3元式スパッタ源(平行平版)
排気系 ターボ分子ポンプ350L/S+ロータリーポンプ150L/S

オプション

オゾン発生装置

MOガスの温度や流量は個別に制御されMOガス個別の特性に応じた制御が可能です

搬送されたサンプルの成膜制御はコンピュータから行います

OPTION

成膜中の温度や流量などのパラメータはコンピュータ内に蓄積され、過去の成膜状態との比較が容易です


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